世創(chuàng)科技獨(dú)有的離子束輔助沉積技術(shù)

離子束輔助沉積技術(shù)（世創(chuàng)離子源系統(tǒng)），源自于中俄涂層科技合作的成果。該系統(tǒng)的基本原理是在工藝進(jìn)行氣體離子刻蝕清洗階段，采用電弧離子鍍膜系統(tǒng)中相對的一對沉積用陰極電弧靶通過控制電路對弧電源的切換組成一對串聯(lián)的陰極靶與陽極靶，陽極靶前配有擋板裝置，只允許氣體離子通過，形成一個離子源系統(tǒng)。該系統(tǒng)根據(jù)涂層機(jī)真空室大小及電弧靶的多少，可設(shè)置1個或多個離子源系統(tǒng)，并可高低按需分布，達(dá)到均勻覆蓋有效工作區(qū)域的要求。離子源氣體離子刻蝕強(qiáng)度可通過控制弧電源的輸入功率進(jìn)行調(diào)節(jié)。在進(jìn)入沉積工藝階段時各靶又切換回沉積用陰極靶進(jìn)行正常的沉積陰極靶使用。沉積陰極靶和離子源系統(tǒng)靶的切換是在工藝流程設(shè)定中由電腦程序自動切換，全自動運(yùn)行。

目前該系統(tǒng)已申報國家專利《一種多功能等離子體增強(qiáng)涂層系統(tǒng)》專利號201220594109.9。對西安430廠用戶使用的世創(chuàng)公司SC1300航空葉片涂層機(jī)生產(chǎn)的調(diào)研反饋得知，該結(jié)構(gòu)離子源使工件表面刻蝕清洗效果明顯提高，沉積后的涂層結(jié)合力更好。

與常規(guī)涂層相比，采用世創(chuàng)離子源涂層的優(yōu)勢

使用前后靶材尺寸變化

                                                                                                                                            “

世創(chuàng)科技相繼在2015年和2018年中標(biāo)西安某一公司和無錫某一公司以來，2019年11月再次與陜西某一公司簽訂了耐熱涂層機(jī)設(shè)備的供貨合同。這充分體現(xiàn)了世創(chuàng)的涂層機(jī)逐步在航空發(fā)動機(jī)領(lǐng)域打開了局面。目前世創(chuàng)的科研技術(shù)人員正在此領(lǐng)域深耕細(xì)作，使該設(shè)備在我國航空發(fā)動機(jī)行業(yè)繼續(xù)發(fā)揚(yáng)光大。